人生
一直在路上
在光学玻璃的加工中，研磨是一道决定光学玻璃表面质量和精度的重要工序。而研磨后的清洗则是整个光学玻璃所需要清洗脏污最多的环节，再加上各种不同SiO2含量的光学玻璃化学稳定性差异，成倍地增加了光学玻璃的清洗难度。
腐
蚀
在光学玻璃抛光后的清洗阶段，主要是以抛光粉等抛光介质为清洗目标。在清洗过程中不仅仅需要保证清洗的洁净程度，在不损伤玻璃基材的情况下还需要保证清洗后的良品率。如果单单只考虑讲光学玻璃表面的抛光粉等清洗干净，估计大多数清洗剂都可以达到效果，但是控制例如Ba、Zn、Ti等含量较高的光学玻璃，在清洗过程中不产生“雾状膜”、“青斑”、“暗斑”、“白斑”等这些受到水、酸、碱等介质不同程度侵蚀的现象，才是清洗的难点所在。
我们都知道光学玻璃在清洗过程中产生这些各种颜色斑点、纹路、膜层等，就其本质而言都可以归类为化学腐蚀现象。最主要是光学玻璃表面各种金属离子（如K+、Na+、Ca++、Pb++等）逸出形成不规则的厚薄不均的干涉薄膜，在光线的反射下形成各种形状的痕迹。有时也有极小量的各种金属离子盐类微晶，由于表面厚度的不均匀性产生不同的干涉颜色，甚至出现彩虹色膜。这类现象尤其容易出现在一些化学稳定性差的光学玻璃镜片上。
这类现象在手机盖板玻璃和光学镜头玻璃的清洗上就能很容易感受到两者的区别，比如手机盖板玻璃在生产之前就考虑了使用环境的复杂性，所以手机盖板玻璃本身就具有很强的环境适应性，这也是手机盖板玻璃清洗时就比较不容易出现光学镜头玻璃的各种光斑现象。而光学镜头玻璃在生产时优先考虑的就是各种光的透过等问题，所以在化学稳定性的问题上就需要使用其他方法来辅助达成了。
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