核心原料为酚醛树脂(正极)、感光树脂(负极)、光引发剂、单体。
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。
光刻胶的原材料
主要为树脂、溶剂和其他添加剂。
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
光刻胶的原材料
光刻胶原材料主要为树脂、溶剂和其他添加剂。其中溶剂质量占比最大,一般在80%以上。其他添加剂质量占比虽不足5%,却是决定光刻胶特有性质的关键材料,包括光敏剂、表面活性剂等材料。